会期：2017年5月11日(木)～5月28日(日) *月曜休館

10:00～17:00 (最終入館は30分前まで)

※5月26日(金)～5月28日（日）は陳列館2Fのみ18:00まで

会場：東京藝術大学大学美術館陳列館 2F
　　　〒110-8714東京都台東区上野公園12-8
入場：無料

主催　東京藝術大学美術学部
協力　東京藝術大学美術学部デザイン科視覚・伝達研究室 /ウィーン応用芸術大学
助成　藝大フレンズ賛助金 / オーストリア文化フォーラム
問い合わせ先　東京藝術大学美術学部絵画科版画研究室　TEL:050-5525-2158
〒110-8714　東京都台東区上野公園12-8東京藝術大学美術学部絵画棟低層部２F 214

美術史は天才によって生み出された傑作について語ることを好みますが、アーティストたちは傑作が成功よりもある種の失敗から生まれることを知っています。版画はその入り組んだ制作プロセスのために、失敗や間違いの機会を豊富に与えてくれます。この展覧会に参加するアーティストたちはそうした経験を共有し、「失敗」からの着想を通して生まれた作品を発表します。版画による「ずれ」＝失敗がしばしば新たな作品に繋がることから、私たちはこの展覧会を「ずれた」と名づけました。5大陸14カ国における19校もの大学から若いアーティストたちを迎え、ここに彼らの「ずれた」作品と取り組みを紹介できることを嬉しく思います。

参加大学（19校）

Victorian College of the Arts – Univ.Melbourne （オーストラリア）, Academy of Fine Arts Vienna （オー
ストリア）,University of Applied Arts Vienna（オーストリア）, University of Sao Paulo（ブラジル）,
College of Fine Arts Shanghai University （中国）, Sichuan Fine Arts Institute （中国）, Academy of Fine
Arts Munich （ドイツ） , University of fine art Budapest（ハンガリー）, National College of Art and
Design Dublin（アイルランド） , Academy of fine arts of Brera （イタリア）, Tokyo University of the
Arts（日本）, The Eugeniusz Geppert Academy of Art and Design in Wroclaw （ポーランド）, University
of Art Bratislava（スロバキア） , University of Johannesburg, Department of Visual Art（南アフリカ） ,
Royal College of Art London（イギリス）, School of the Museum of Fine Arts, Boston at Tufts
University（アメリカ） , Webster University（アメリカ） , Washington University in St. Louis（アメリ
カ） , University of Guam（アメリカ）

参加作家（45名）

Elias Toner, Isabel Rumble, Takuro Yokoo, Frank Furtschegger (KNARF), Victoria Vinogradova, Assunta Abdel Azim Mohamed, Katya Krauchanka, Ana Lucia Calzavara, Marina Zilbersztejn, Huang Mengzhu, Yin Yuan, Bin Huang, Xingbing Pang, Marco Stanke, Aron Herdrich, Ieva Jakušonoka, Eszter Bocsi, Kiss Botond, Jessie Hopkins, Michele Hetherington, Cristiano Rizzo, Virginia Dal Magro, Kanami Hano, Kei Imai, Koyomi Horioka, Fernando Saiki, Shiori Ichikawa, Shoko Osugi, Simone Philippou, Sosuke Ueta, Yukiko Kishi, Beata Filipowicz, Gabriela Gorączko, Pavol Truben, Heidi Mielke, Lisa Linossi, Bianca Barandun, James Jessiman, Alexandra Wollins, Margaret Stage, Mia Mendoza, Taylor Leighton, Anna Joo, Joleen Unas, Katlyn Sutherland

2017. 05. 26(金) – 28(日) 10:00 – 18:00

陳列館2F

シンポジウムタイムテーブル

不完全さ」とはミスプリント、失敗や誤解などに似て、物事を更新していく為の絶え間ない源泉です。それは創造力を突き動かす、全世界共通のエンジンと言えるでしょう。このシンポジウムでは様々な国のアーティストや研究者たちが予期せぬ失敗の結果が、いかに新たなアートを生み出すきっかけとなり得るか議論します。すべての参加者たちが芸術表現として版画を用いることから、全世界の同志たちが「失敗」による発想をどのように捉えているかについてこのシンポジウムが学びの場となることを願っています。版画はマスメディアとその社会を起源に生まれたがゆえ、そこには常にメディアが孕む「間違いとは何か」という問いかけが必要なのです。

キーノート・スピーカー

リサ・ブルワスキー（ワシントン大学セントルイス）

ヤン・スヴェヌングソン（ウィーン応用芸術大学）

三井田盛一郎（東京藝術大学）